
在先前消息指出 Apple 设计团队出现变化,也就是 Jony Ive 脱离产品硬体设计、Christopher Stringer 决定离职后,外界都担心会导致下一代 iPhone 设计风格大变。而现在疑似从富士康内部流出的设计图,似乎也说明了这个可能!
根据《9to5Mac》的报导,中国微博上出现了疑似从富士康内部流出的 iPhone 8 设计图。从影像中可以看到,iPhone 8 可能会采用近似 Galaxy S8 的正面设计,而非如先前传闻采用全正面屏幕、并取消前置相机的设计。
而被取消的正面 Home 键,则是可能会变成多数 Android 手机采用的后置指纹辨识器,此外位置不会是常见的上半部,而是在手机的背面中央,这是为了维持 Apple Logo 的跻身位置。
而双镜头相机的部分,与先前传出的设计草图类似,也就是采用垂直双镜头排列的方式。另外手机的厚度将低于 7.2mm,更薄于 iPhone 7 系列机种。然而 Apple 是否会采用这个设计,《9to5Mac》持保留态度。
原因在于这个设计图右上角的“EVT”字样,EVT 所指的是工程验证测试,被认为是 Apple 产品的开发初期阶段,之后 Apple 还到需要进行 DVT 与 PVT 等阶段,才会确认该装置的设计。
由于目前消息多指向 Apple 正全力开发屏幕结合指纹辨识的技术,因此可能是 Apple 的备用方案。若是像三星一样遭遇到技术开发困难,还能确保新 iPhone 可以透过不同形式向市场推出。